深圳大成精密携新产品闪耀亮相2016国际薄膜展
11月24日，以“博大精深，膜力无边”为主题的2016年第十二届深圳国际高性能薄膜制造技术展览会在深圳会展中心隆重开幕。从原材料到成品，从大会规模、参展企业实力、参展产品水平、与会人次和质量水准乃至于全球行业影响力上均达到一个新高度。
作为亚太地区功能性薄膜与胶粘制品行业的极具规模与品牌影响力的产品技术展示及商贸洽谈服务平台，以各种功能性薄膜、胶粘带、保护膜及光学膜及加工设备等为核心的FILM EXPO & APFO EXPO吸引来自业内的薄膜生产、薄膜测量及模切加工、光电显示制造等约200余家知名展商集体亮相。
作为“锂电池极片测量领导者”的深圳大成精密，携诸多核心产品在展会现场大显身手，与国际大牌同台演绎。大成精密整合行业最先进的技术、理念与管理资源，不断研发并推出多款差异化竞争产品，实现跨越式发展——试水“ 薄膜测量”细分行业。新品“光学干涉测厚仪”的重磅亮相，赢得业界高度关注。
现场众多买家表达了对“激光测厚仪”、“光学干涉测厚仪”的浓厚兴趣，纷纷向现场相关负责人了解其详细内容 ，现场意向合作达数例，丰厚战果出人意料。
“光学干涉测厚仪”
入射光束在遇到被测物的各个界面时发生反射和投射，不同界面的反射光由于相位的不同而发生干涉，通过测量干涉条纹的特征，间接测量被测物的厚度。
特点：
在线实时扫描测量薄膜的厚度，实时反映生产过程中薄膜的厚度趋势，帮助反馈调节生产设备，实现更稳定一致的生产；
可输出横向纵、向趋势图、最大值、最小值、极差、ＣＰＫ等统计参数；
高精密厚度测量，重复精度达0.4nm；
可同时检测多层材料厚度；
适用于光滑表面透明膜厚度测量；
典型应用于：光学膜涂布、太阳能晶圆、超薄玻璃、胶带、Ｍylar 膜、OCA光学胶、光阻等测量。
设备参数：
适合材质：透明光滑表面薄膜，非磨砂表面薄膜；
测量范围：100nm ～100um
测量精度：0.4%
测量重复性：±0.4nm
波长范围：380nm ～ 1100 nm
响应时间：1 ～ 10ms
测量光斑：3 ～12nm
动态扫描测量重复性：±1nm
深圳大成精密，一步步脚踏实地，每一个理念都给行业带来新的启迪，每一次突破都给行业带来翻天覆地的变化。未来，深圳大成精密团队上下，将以永不停息的创业激情，继续载誉前行。
除了一大批全球领先的产品，国内外高科技前沿领域的关键技术、核心技术和尖端技术集中亮相。展会同期举办了2016第二届•模切市场与新材料技术高峰论坛，邀请了多位业内权威专家、协会领导，以及中外知名企业高层，一同探讨企业的“生存+发展之路”,畅谈全球薄膜领域的最新布局。